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              CVD系統 當前位置:網站首頁 > 產品展示

          化學氣相沉積CVD一體機

          發布時間:2021-04-14  瀏覽次數:486

          設備簡介:

          化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或在基質表面反應合成涂層或米材料的方法,是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術,包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發成套的CVD鍍膜系統,適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環??茖W等領域;

           

           

           

           

           

           

           

          技術參數 

           

          系統描述

          產品型號

          NBD-T1700-80IT(G3Z)

          工作溫度

          ≤1650

          加熱區尺寸

          310mm

          恒溫區尺寸 220mm

          升溫速率

          20/min

          電氣規格

          AC 220V  4.5KW

          控制系統



          氣體系統(可選購)

          流量計類型

          浮子流量計

          質量流量計

          管道示意圖

           

           

          進氣接口數量

          2、3、4(多路可選)

          流量范圍

          20-200/60-600l/min(多量程可選)

          50/100/200sccm(多量程可選)

          工作壓差范圍

          0-0.15MPa

          低真空系統(可選購)

          真空泵型號

          NBD-1.5C

          NBD-3C

          NBD-4C

          抽氣速率

          1L/s

          3L/s

          4L/s

          進排氣口尺寸

          Φ8mm寶塔接頭

          Φ8mm寶塔接頭

          KF16/25

          極限壓力

          1000Pa

          100Pa

          10Pa

          工作溫度

          5-40

          電氣規格

          AC220V

          分子泵高真空系統

          (可選購)

          分子泵系統型號

          NBD-103(A)

          NBD-103(B)

          NBD-103(C)

          抽氣速率

          110L/s

          600L/s

          700L/s

          真空測量計

          復合真空計

          極限壓力

          10^-3Pa

          10^-4Pa

          10^-5Pa

          工作溫度

          5-40

          電氣規格

          AC 220V

          AC 220V

          AC 380V

          * 支持非標定做,更多型號,歡迎來電垂詢400-000-3746

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