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              CVD系統 當前位置:網站首頁 > 產品展示

          CVD系統O1200-MINI-G3Z

          發布時間:2018-11-27  瀏覽次數:2394

          設備簡介:

          化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業中應用非常廣泛的用來沉積薄膜材料的技術,包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發成套的CVD鍍膜系統,適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環??茖W等領域。





                          



           

           

           

           

           



          配置詳情

          NBD-101E嵌入式操作系統中英文互換圖形界面,7寸真彩觸屏輸入,智能式人機對話模式,非線性式樣溫度修正;


          產品型號

          O1200-MINI-G3Z

          達到溫度

          ≤1150℃

          加熱區尺寸

          200mm

          升溫速率

          ≤20℃/min

          電氣規格

          AC220V  1.2KW

          氣體系統(可選購)

          流量計類型

          浮子流量計

          質量流量計

          管道示意圖

           

           

          進氣接口數量

          2、3、4(多路可選)

          流量范圍

          20-250/20-800ml/min(多量程可選)

          50/100/200sccm(多量程可選)

          工作壓差范圍

          0-0.15MPa

          低真空系統(可選購)

          真空泵型號

          NBD-1.5C

          NBD-3C

          NBD-4C

          抽氣速率

          1L/s

          3L/s

          4L/s

          進排氣口尺寸

          Φ8mm寶塔接頭

          Φ8mm寶塔接頭

          KF16/25

          極限壓力

          1000Pa

          100Pa

          10Pa

          工作溫度

          5-40℃

          電氣規格

          AC220V

          高真空系統(可選購)

          真空泵型號

          NBD-103(A)

          NBD-103(B)

          NBD-103(C)

          抽氣速率

          110L/s

          600L/s

          700L/s

          真空測量計

          復合真空計

          極限壓力

          10^-3Pa

          10^-4Pa

          10^-5Pa

          工作溫度

          5-40℃

          電氣規格

          AC 220V

          AC 220V

          AC 380V

          * 支持非標定做,更多型號,歡迎來電垂詢400-000-3746


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